[实用新型]一种处理垫及含有该处理垫的基材处理设备无效
| 申请号： | 200420013711.4 | 申请日： | 2004-10-08 |
| 公开（公告）号： | CN2936578Y | 公开（公告）日： | 2007-08-22 |
| 发明（设计）人： | 蔡东辰;张守松;陈良毓 | 申请（专利权）人： | 应用材料股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04;H01L21/302 |
| 代理公司： | 上海新高专利商标代理有限公司 | 代理人： | 楼仙英;竺明 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种处理垫，其具有一覆盖层及一固定至该覆盖层的背衬层。该覆盖层具有一外表面、一第一厚度、一第一压缩度以及一介约40至80箫式硬度D间的硬度。该背衬层具有一大于该第一厚度的第二厚度以及一大于该第一压缩度的第二压缩度。该第一厚度、第一压缩度、第二厚度以及第二压缩度可使该外表面在所施压力为1psi或更低时偏离至少2密尔。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 处理 含有 基材 设备 | ||
【主权项】：
1.一种处理垫，其至少包含：一覆盖层，所述覆盖层具有一外表面、一第一厚度、一第一压缩度，其特征是，该覆盖层具有一介约40至80箫式硬度D间的硬度，以及一非均匀厚度；所述处理垫还包括一背衬层，该背衬层固定至该覆盖层，该背衬层具有一大于该第一厚度的第二厚度以及一大于该第一压缩度的第二压缩度；以及该第一厚度、第一压缩度、第二厚度以及第二压缩度可使该外表面在所施压力为1磅/平方英时或更小时偏移较该覆盖层的非均匀厚度为多的距离。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于应用材料股份有限公司，未经应用材料股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200420013711.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
