[实用新型]双面一次成膜真空离子溅镀机无效
| 申请号： | 200420024850.7 | 申请日： | 2004-02-20 |
| 公开（公告）号： | CN2716280Y | 公开（公告）日： | 2005-08-10 |
| 发明（设计）人： | 林政乾;戴明光 | 申请（专利权）人： | 林政乾;戴明光 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 苏州创元专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 范晴 |
| 地址： | 215101江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种双面一次成膜真空离子溅镀机，包括溅镀室、安装在溅镀室内的溅射发生器、分别与溅镀室的进口和出口密封连接的若干个真空过渡室、贯穿于真空过渡室和溅镀室的工件输送线，所述溅镀室包括第一溅镀室和第二溅镀室，第一溅镀室内的溅射发生器安装在工件输送线的上方，第二溅镀室内的溅射发生器安装在工件输送线的下方；该溅镀机可以对工件的两个面同时进行镀膜，大大提高了生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 双面 一次 真空 离子 溅镀机 | ||
【主权项】：
1.一种双面一次成膜真空离子溅镀机，包括溅镀室(1)、安装在溅镀室(1)内的溅射发生器(2)、分别与溅镀室(1)的进口和出口密封连接的真空过渡室(3)、贯穿于真空过渡室(3)和溅镀室(1)的工件输送线(4)，其特征在于：所述溅镀室(1)包括第一溅镀室(11)和第二溅镀室(12)，第一溅镀室(11)内的溅射发生器(21)安装在工件输送线(4)的上方，第二溅镀室(12)内的溅射发生器(22)安装在工件输送线(4)的下方。
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