[实用新型]孔式同轴激光熔覆喷嘴无效
| 申请号： | 200420046953.3 | 申请日： | 2004-06-15 |
| 公开（公告）号： | CN2707773Y | 公开（公告）日： | 2005-07-06 |
| 发明（设计）人： | 杨永强;黄勇 | 申请（专利权）人： | 华南理工大学 |
| 主分类号： | C23C4/00 | 分类号： | C23C4/00;B23K26/34 |
| 代理公司： | 广州粤高专利代理有限公司 | 代理人： | 林丽明 |
| 地址： | 510640广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种孔式同轴激光熔覆喷嘴，由喷嘴芯、调节套、连接套依次通过螺栓连接构成；喷嘴至下而上接有冷却水进、出水管各一条，进粉管三至六条，保护气管一条。本实用新型实现粉末会聚点与激光聚焦点同轴并重合；在激光头倾斜时，仍能保持送出的粉末各向均匀。 | ||
| 搜索关键词： | 同轴 激光 喷嘴 | ||
【主权项】：
1、一种孔式同轴激光熔覆喷嘴，其特征在于由喷嘴芯、调节套、连接套依次通过螺栓连接构成；喷嘴至下而上接有冷却水进、出水管各一条，进粉管三至六条，保护气管一条。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法，例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理，例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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