[实用新型]连通式多反应室高温有机金属化学气相淀积装置无效
申请号: | 200420055041.2 | 申请日: | 2004-12-21 |
公开(公告)号: | CN2756644Y | 公开(公告)日: | 2006-02-08 |
发明(设计)人: | 傅竹西;李晓光;王秋来;刘世闯 | 申请(专利权)人: | 中国科学技术大学;沈阳市超高真空应用技术研究所 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/46 |
代理公司: | 合肥华信专利商标事务所 | 代理人: | 余成俊 |
地址: | 230026*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本实用新型涉及化学气相化学淀积或有机金属化学气相淀积装置的改进。该装置包括现有技术中的气路系统、反应室、送样机构、输运管路系统、真空机组、尾气处理和报警系统以及操作控制系统,所述反应室至少有两个,每个反应室分别设有送样机构或共用送样机构,每个反应室分别与气路系统、真空系统连通;反应室与反应室之间由输运管道连通,在该输运管道上设置有能控制开启、关闭的开关阀。其样品加热器采用石墨片的电阻加热方式,并且在加热器及基片托周围设置了热屏蔽罩,大大提高了加热温度。本实用新型的不同反应室内的系统设计可以按独立的MOCVD系统对不同材料的不同要求来设计,克服了同一台MOCVD设备只能用来生长同一种系列的薄膜材料的缺陷,拓展了MOCVD设备的使用功能。 | ||
搜索关键词: | 通式 反应 高温 有机 金属 化学 气相淀积 装置 | ||
【主权项】:
1.连通式多反应室高温有机金属化学气相淀积装置,包括现有技术中的气路系统、反应室、送样机构、输运管路系统、真空机组、尾气处理和报警系统以及操作控制系统,所述反应室内设置有样品加热机构,其特征在于,所述反应室至少有两个,每个反应室分别设有送样机构,每个反应室分别与气路系统、真空系统连通;反应室与反应室之间由输运管道连通,在该输运管道上设置有能控制开启、关闭的开关阀。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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