[实用新型]多重栅极介电层的结构无效

专利信息
申请号: 200420059202.5 申请日: 2004-05-25
公开(公告)号: CN2751446Y 公开(公告)日: 2006-01-11
发明(设计)人: 杨育佳;杨富量;胡正明 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/105 分类号: H01L27/105;H01L27/088;H01L29/78;H01L21/8234;H01L21/336;H01L21/28
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 代理人: 王一斌
地址: 台湾省新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 实用新型提供一种多重栅极介电层的结构。其中,该重栅极介电层的结构是包含一高介电常数介电层沉积于一具有原生氧化层的半导体基底上,该高介电常数介电层的介电常数大于8。该高介电常数介电层是不形成于一高效能组件区内,做为低漏电流组件区的一栅极介电层的一部分。
搜索关键词: 多重 栅极 介电层 结构
【主权项】:
1.一种多重栅极介电层的结构,其特征在于,包括:一半导体基底,该半导体基底包含一高效能组件区及一低漏电流组件区;一第一栅极介电层,设置于该高效能组件区的该半导体基底表面;由一高介电常数介电层及一界面介电层堆栈而成的一第二栅极介电层,设置于该低漏电流组件区的该半导体基底表面,该界面介电层是位于该高介电常数介电层及该半导体基底之间,该高介电常数介电层的介电常数大于8。
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