[实用新型]透明材料激光内部雕刻装置无效
申请号: | 200420065190.7 | 申请日: | 2004-07-04 |
公开(公告)号: | CN2714340Y | 公开(公告)日: | 2005-08-03 |
发明(设计)人: | 朱晓;朱长虹;齐丽君;朱广志 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
主分类号: | B44B1/00 | 分类号: | B44B1/00;B23K26/00;H01S5/00 |
代理公司: | 华中科技大学专利中心 | 代理人: | 朱仁玲 |
地址: | 430074湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本实用新型提供了一种透明材料激光内部雕刻装置,包括激光器、扩束镜、第一振镜、第二振镜、F-θ聚焦镜和计算机,激光器包括全反镜、声光调Q器件、半导体泵浦模块、倍频晶体、输出镜,全反镜镀有基频光全反膜层,或者同时镀有基频光和倍频光双全反膜层,输出镜同时镀有对基频光透过率为4%~10%和对倍频光全透的膜层,激光器产生1~10千赫兹调Q倍频激光脉冲输出;计算机控制第一振镜、第二振镜分别在X、Y方向上快速振动,使经过扩束镜的激光束在XY方向扫描运动,控制一维电控位移台实现F-θ聚焦镜或透明材料在Z方向上的运动。本实用新型激光输出模式好,光功率稳定、效率高;雕刻速度快,适合进行大幅面透明材料的雕刻。 | ||
搜索关键词: | 透明 材料 激光 内部 雕刻 装置 | ||
【主权项】:
1.一种透明材料激光内部雕刻装置,其特征在于:包括激光器(1)、扩束镜(2)、第一振镜(3)、第二振镜(4)、F-θ聚焦镜(5)和计算机(6);激光器(1)包括全反镜(8)、声光调Q器件(9)及其电源(13)、半导体泵浦模块(10)、倍频晶体(11)、输出镜(12),全反镜(8)镀有基频光全反膜层,或者同时镀有基频光和倍频光双全反膜层,输出镜(12)同时镀有对基频光透过率为4%~10%和对倍频光全透的膜层,电源(13)调节声光调Q器件(9)的驱动频率,产生1~10千赫兹调Q倍频激光脉冲输出;扩束镜(2)将激光器(1)输出的激光束直径扩大,发散角压缩,使激光束通过聚焦镜(5)聚焦后的光斑直径缩小,得到小的聚焦光斑;第一振镜(3)将经过扩束镜(2)后的平行于x轴的激光束偏转成平行于y轴的激光束,第二振镜(4)将上述平行于y轴的激光束偏转成平行于z轴的激光束;F-θ聚焦镜(5)将上述平行于z轴的激光束聚焦到透明材料中;计算机(6)控制第一振镜(3)、第二振镜(4)分别在X、Y方向上快速振动,使经过扩束镜(2)的激光束在XY方向扫描运动。
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