[实用新型]真空灭弧室电弧均布式电极无效
申请号: | 200420070540.9 | 申请日: | 2004-09-04 |
公开(公告)号: | CN2733566Y | 公开(公告)日: | 2005-10-12 |
发明(设计)人: | 王政 | 申请(专利权)人: | 王政 |
主分类号: | H01H33/18 | 分类号: | H01H33/18;H01H9/44;H01H33/664 |
代理公司: | 锦州辽西专利事务所 | 代理人: | 李辉 |
地址: | 121000辽宁*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 一种真空灭弧室电弧均布式电极,包括杯座,在杯座侧壁上设有斜槽,在触头片上设有与斜槽对应的径向槽,在杯座底面焊接有导电杆,在杯座上沿焊接有触头片,其特殊之处是在杯座内设置有采用非导磁材料制成的支撑盘,在支撑盘表面均布有若干个采用高导磁材料制成的增磁柱,所说的增磁柱与触头片之间以及增磁柱与杯座之间有间隙。优点是可有效抑制由交变电流产生的涡流、明显增强对真空电弧的磁控能力,使电弧能在整个电极表面均匀燃烧,电极有效利用率高,能显著提高真空灭弧室的开断能力。 | ||
搜索关键词: | 真空 灭弧室 电弧 均布式 电极 | ||
【主权项】:
1、一种真空灭弧室电弧均布式电极,包括杯座,在杯座侧壁上设有斜槽,在触头片上设有与斜槽对应的径向槽,在杯座底面焊接有导电杆,在杯座上沿焊接有触头片,其特征是:在杯座内设置有采用非导磁材料制成的支撑盘,在支撑盘表面均布有若干个采用高导磁材料制成的增磁柱,增磁柱与触头片之间以及增磁柱与杯座之间有间隙。
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