[实用新型]真空镀膜机加热装置无效
申请号: | 200420077769.5 | 申请日: | 2004-07-13 |
公开(公告)号: | CN2707774Y | 公开(公告)日: | 2005-07-06 |
发明(设计)人: | 路秀真;常秀兰;刘峰奇;王占国 | 申请(专利权)人: | 中国科学院半导体研究所 |
主分类号: | C23C14/26 | 分类号: | C23C14/26 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 汤保平 |
地址: | 100083北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种真空镀膜机加热装置,包括:一加热片,该加热片为一片体,该加热片为连续折线形,该加热片的两端均有一接脚;一薄形盒体,该薄形盒体为矩形,该薄形盒体的一端为开口,该薄形盒体内部空间大于加热片;该加热片容置在薄形盒体内,该加热片的两接脚露出于薄形盒体的开口之外。本实用新型具有升温迅速,加热均匀,蒸发过程中污染小,断电后,降温迅速的优点。 | ||
搜索关键词: | 真空镀膜 加热 装置 | ||
【主权项】:
1、一种真空镀膜机加热装置,其特征在于,包括:一加热片,该加热片为一片体,该加热片为连续折线形,该加热片的两端均有一接脚;一薄形盒体,该薄形盒体为矩形,该薄形盒体的一端为开口,该薄形盒体内部空间大于加热片;该加热片容置在薄形盒体内,该加热片的两接脚露出于薄形盒体的开口之外。
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