[实用新型]设有真空罩的上模座改进结构无效

专利信息
申请号: 200420096038.5 申请日: 2004-09-29
公开(公告)号: CN2730610Y 公开(公告)日: 2005-10-05
发明(设计)人: 陈法胜 申请(专利权)人: 陈法胜
主分类号: B29C33/00 分类号: B29C33/00
代理公司: 北京天平专利商标代理有限公司 代理人: 孙刚
地址: 中国*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种设有真空罩的上模座改进结构,其包含有一基座,具有一底部,一工作面,位于该底部的上侧端上,一枢部,以一端固接于该底部上,另端末与该工作面间并相隔一预定的高度差;一上模座,枢接于该枢部的另端末上并可以之为轴而于一合模与一开模位置间枢转动作,具有一板状座身,一导部,自该座身相向于该工作面的一侧板面往外延伸预定的长度,而介于该座身与该工作面间;一罩件,具有一中空罩壳,滑设于该导部上,并可沿该导部的长轴方向于一罩盖位置及一释放位置间滑移动作。
搜索关键词: 设有 真空 上模座 改进 结构
【主权项】:
1、一种设有真空罩的上模座改进结构,其特征在于,包含有:一基座,具有一底部,一位于该底部上侧端上的工作面,至少一枢部,其一端固接于该底部上,另端末与该工作面间具有一预定的高度差;一于一合模与一开模位置间以枢部为轴枢转的上模座,枢接于该枢部的另端末上,还具有一板状座身,一自该座身相向于该工作面的一侧板面往外延伸预定长度的导部,位于该座身与该工作面之间;一罩件,具有一滑设于该导部上,可沿该导部的长轴方向于一罩盖位置及一释放位置间滑移的中空罩壳。
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