[实用新型]湿蚀刻设备无效
| 申请号： | 200420103599.3 | 申请日： | 2004-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN2763268Y | 公开（公告）日： | 2006-03-08 |
| 发明（设计）人： | 高胜洲;黄荣龙;欧振宪;邱立峰 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;群创光电股份有限公司 |
| 主分类号： | C03C15/00 | 分类号： | C03C15/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518109广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种湿蚀刻设备，包括呈顺序排布的：其包括呈顺序排布的：一承载与缓冲区，一第一蚀刻室，一采用高压水柱清除基板在该第一蚀刻室内被蚀刻后形成在其表面上副生成物的清洗室，一第二蚀刻室，一漂洗与干燥传送区。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 设备 | ||
【主权项】：
1.一种湿蚀刻设备，包括呈顺序排布的：一承载与缓冲区，一第一蚀刻室，一采用高压水柱清除基板在该第一蚀刻室内被蚀刻后形成在其表面上副生成物的清洗室，一第二蚀刻室，一漂洗与干燥传送区。
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