[实用新型]一种带反馈控制的激光刻蚀机无效

专利信息
申请号: 200420109984.9 申请日: 2004-12-10
公开(公告)号: CN2776618Y 公开(公告)日: 2006-05-03
发明(设计)人: 王又良;陈益民;张伟;郁德明 申请(专利权)人: 上海市激光技术研究所
主分类号: B23K26/04 分类号: B23K26/04
代理公司: 上海申汇专利代理有限公司 代理人: 吴宝根
地址: 200233*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型公开了一种带反馈控制的激光刻蚀机,它由激光器系统、扩束镜组、X-Y振镜头、透镜、计算机控制系统组成,其特点是,在激光器系统中采用风冷全固态激光器;在X振镜头和Y振镜头的伺服电机的轴上分别置有角位移传感器,由角位移传感器测得振镜头偏转的实际角位移和计算机设定的角位移相比较后再控制X-Y振镜头的扫描,以达到刻蚀位置精确控制。由于激光器系统中采用风冷全固态激光器,使刻蚀机体积较小,在X振镜头和Y振镜头的伺服电机的轴上分别置有角位移传感器,测得振镜头偏转的实际角位移和计算机设定的角位移相比较后反馈控制X-Y振镜头的扫描,使刻蚀位置精确。
搜索关键词: 一种 反馈 控制 激光 刻蚀
【主权项】:
1、一种带反馈控制的激光刻蚀机,它由激光器系统(1)、扩束镜组(2)、X-Y振镜头(3)、透镜(4)、计算机控制系统(5)组成,其特征在于,在激光器系统(1)中采用风冷式全固态激光器;在X振镜头和Y振镜头的伺服电机(6)和(8)的轴上分别置有角位移传感器(10、11),由角位移传感器测得振镜头偏转的实际角位移和计算机设定的角位移相比较后再控制X-Y振镜头的扫描,以达到刻蚀位置精确控制。
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