[实用新型]一种激光打孔刻痕装置无效

专利信息
申请号: 200420114954.7 申请日: 2004-12-28
公开(公告)号: CN2772711Y 公开(公告)日: 2006-04-19
发明(设计)人: 黄涛;王智勇;邹玉贤;左铁钏;李东江;王益泉 申请(专利权)人: 宝山钢铁股份有限公司;北京工业大学
主分类号: B23K26/06 分类号: B23K26/06
代理公司: 上海新高专利商标代理有限公司 代理人: 竺明
地址: 20190*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种激光打孔刻痕装置,对运动的薄型板材进行高速度激光打孔兼刻痕,包括双脉冲激光器、光学变换系统、转镜及F-θ聚焦光学系统;双脉冲激光器输出长、短脉冲;光学变换系统包括两个焦距不同的透镜组成,前透镜焦距短,后透镜焦距长,对脉冲激光进行扩束变换;转镜为一维转镜,将经光学变换系统变换后的激光光束发生偏转,偏转方向与板材的运动方向相同;F-θ聚焦光学系统包括两个非球面透镜,前一个非球面透镜将激光光束进行进一步的偏折,并改变激光光束的波前形状,后一个透镜将激光光束进行聚焦,经聚焦后打在运动板材上,短脉冲激光来打孔,而长脉冲激光来刻痕。
搜索关键词: 一种 激光 打孔 刻痕 装置
【主权项】:
1.一种激光打孔刻痕装置,对运动的薄型板材进行高速度激光打孔兼刻痕,其特征是,包括,双脉冲激光器,其输出激光脉冲为一个短脉冲和一个长脉冲;光学变换系统,其为一倒置望远镜结构,包括两个焦距不同的透镜组成,前透镜焦距短,后透镜焦距长,设置于双脉冲激光器射出光路上,对脉冲激光进行扩束变换;转镜,其为一维转镜,设置于光学变换系统后,将经光学变换系统变换后的激光光束发生偏转,偏转方向与板材的运动方向相同;F-θ聚焦光学系统,包括两个非球面透镜,前一个非球面透镜将激光光束进行进一步的偏折,并改变激光光束的波前形状,而后一个非球面透镜将激光光束进行聚焦。
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