[实用新型]成像装置及其显影单元、光电导体单元和处理单元无效
| 申请号： | 200420118209.X | 申请日： | 2004-10-08 |
| 公开（公告）号： | CN2779452Y | 公开（公告）日： | 2006-05-10 |
| 发明（设计）人： | 堀之江满;石井昌宏;岸勋朗;普轮崎丈史;石川悟 | 申请（专利权）人： | 兄弟工业株式会社 |
| 主分类号： | G03G15/08 | 分类号： | G03G15/08;G03G21/16 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种成像装置，包括：图像载体，其上携带静电潜像；静电潜像形成单元，其设置在所述图像载体周围以便在所述图像载体表面上形成静电潜像；显影单元，其相对于所述图像载体的旋转方向设置在所述静电潜像形成单元的下游，且该显影单元具有容纳调色剂的调色剂给料器和与图像载体表面接触的接触部分，该接触部分被设置为可沿图像载体的表面相对地移位，以将容纳在调色剂给料器中的调色剂转移到由静电潜像形成单元形成的静电潜像上；和与显影单元配合的导槽机构，其支持显影单元在预定的方向上移位，以使显影单元的接触部分由于显影单元的重力而与图像载体的上部接触。 | ||
| 搜索关键词： | 成像 装置 及其 显影 单元 光电 导体 处理 | ||
【主权项】：
1、一种成像装置，包括：图像载体，其上携带静电潜像；静电潜像形成单元，其设置在所述图像载体周围以便在所述图像载体表面上形成静电潜像；显影单元，其相对于所述图像载体的旋转方向设置在所述静电潜像形成单元的下游，且该显影单元具有容纳调色剂的调色剂给料器和与图像载体表面接触的接触部分，该接触部分可沿图像载体的表面相对移位，以将容纳在调色剂给料器中的调色剂转移到由静电潜像形成单元形成的静电潜像上来形成调色剂图像，该调色剂图像可被转移到转印材料上以在其上形成图像；其特征在于，所述成像装置还包括与显影单元配合的导槽机构，其支持显影单元在预定的方向上移位，以使显影单元的接触部分由于显影单元的重力而与图像载体的上部接触。
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