[实用新型]半导体电路无效
申请号: | 200420120271.2 | 申请日: | 2004-12-22 |
公开(公告)号: | CN2775842Y | 公开(公告)日: | 2006-04-26 |
发明(设计)人: | 黄绍璋 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L23/60 | 分类号: | H01L23/60;H01L27/04 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所 | 代理人: | 刘新宇;贾敬东 |
地址: | 台湾省新竹科学*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型提供一种半导体电路,其包含有一半导体基材、一半导体元件具有一漏极区域设于半导体基材上,以及一相反型掺杂区域水平设置于漏极区域旁并与漏极区域相接,其中相反型掺杂区域具有与漏极相反的掺质类型,且其掺质浓度高于半导体基材,而相反型掺杂区域及漏极区域则用来形成一p-n接合区域。形成于相反型掺杂区与漏极之间的p-n接合则可提供一较低的崩溃电压,因此可强化静电放电防护能力;相反型掺杂区可由传统的布植制程所形成,且可与其它的p型掺杂区同时制作,因此,制作相反型掺杂区将不会需要额外的掩膜与布植步骤;由于相反型掺杂区域可于其它掺杂制程中同时制作,因此可降低制造成本。 | ||
搜索关键词: | 半导体 电路 | ||
【主权项】:
1.一种半导体电路,其特征在于所述半导体电路包含有:一半导体基材;一半导体元件具有一漏极区域设于该基材上;以及一相反型掺杂区域水平设置于该漏极区域旁并与该漏极区域相接,其中该相反型掺杂区域具有与该漏极相反的掺杂型态,且其掺质浓度高于该半导体基材,而该相反型掺杂区域及该漏极区域则用来形成一p-n接合区域。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200420120271.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:钟表上发条装置
- 下一篇:一种用于微波加热设备的出料机构