[实用新型]一种干式足浴装置无效
申请号: | 200420120392.7 | 申请日: | 2004-12-20 |
公开(公告)号: | CN2768763Y | 公开(公告)日: | 2006-04-05 |
发明(设计)人: | 杨金龙;马天民;席小庆;杨景;郝永林 | 申请(专利权)人: | 邯郸市勇龙世纪高技术陶瓷有限公司 |
主分类号: | A61H33/00 | 分类号: | A61H33/00;A61H35/00;A61H7/00;A61H15/02 |
代理公司: | 北京申翔知识产权代理有限公司 | 代理人: | 周春发 |
地址: | 056000河北省*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | 本实用新型公开一种干式足浴装置,其包含有加热恒温装置、介质容器、及足浴介质;该加热恒温装置置于底部,其上置放导热板,介质容器置于导热板之上,该足浴介质置于该介质容器之内。该加热恒温装置包含有承重底座、置放于该承重底座上的热系统、以及用于控制热系统温度的控制系统。本实用新型采用一种具有高强度、优越滚动性、良好接触感、永不磨损的陶瓷微珠作为介质,其吸热快,散热慢。在介质的底部采用多功能加热恒温装置,温度范围可以在30-200℃之间任意设定。其还具有使用方便、节水节能;避免细菌感染;可长时间、全方位进行干式足部温烤、按摩等诸多优点。 | ||
搜索关键词: | 一种 干式足浴 装置 | ||
【主权项】:
1、一种干式足浴装置,其特征在于:该装置包含有加热恒温装置、介质容器、及足浴介质;该加热恒温装置置于底部,其上置放导热板,介质容器置于导热板之上,该足浴介质置于该介质容器之内。
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