[实用新型]带有匀温－隔离组件的制备氧化物薄膜用衬底加热系统无效
| 申请号： | 200420122208.2 | 申请日： | 2004-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN2751033Y | 公开（公告）日： | 2006-01-11 |
| 发明（设计）人： | 王瑞兰;郑东宁;李宏成;田海燕 | 申请（专利权）人： | 中国科学院物理研究所 |
| 主分类号： | C23C14/00 | 分类号： | C23C14/00;C23C14/08 |
| 代理公司： | 北京中创阳光知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 尹振启 |
| 地址： | 100080北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种带有匀温－隔离组件的制备氧化物薄膜用衬底加热系统，该系统包括发热组件、匀温隔离组件、衬底及衬底定位组件；发热组件及衬底分设于匀温隔离组件两侧，衬底定位组件将衬底固定于匀温隔离组件上。采用上述结构后，由于本实用新型的发热组件和衬底之间设有匀温隔离组件，在匀温隔离组件的作用下，使衬底温度的均匀度提高，可以降低对发热组件温度均匀度的要求；并且匀温隔离组件将衬底与发热组件隔开，还可防止处于高温的发热组件挥发出的杂质落到衬底上，减少对已沉积的薄膜的污染，而且该装置简单易行、成本低，适合于多种制备氧化物薄膜的设备。 | ||
| 搜索关键词： | 带有 隔离 组件 制备 氧化物 薄膜 衬底 加热 系统 | ||
【主权项】：
1、一种带有匀温-隔离组件的制备氧化物薄膜用衬底加热系统，其特征在于：包括发热组件、匀温隔离组件、衬底及衬底定位组件；发热组件及衬底分设于匀温隔离组件两侧，衬底定位组件将衬底固定于匀温隔离组件上。
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