[发明专利]等离子体显示屏的制造方法无效
| 申请号： | 200480000197.3 | 申请日： | 2004-02-23 |
| 公开（公告）号： | CN1836304A | 公开（公告）日： | 2006-09-20 |
| 发明（设计）人： | 足立大辅 | 申请（专利权）人： | 松下电器产业株式会社 |
| 主分类号： | H01J9/02 | 分类号： | H01J9/02;H01J11/02 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 陈海红;段承恩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明实现能够抑制由于附着在光掩模上的灰尘等在PDP的构造物中发生缺陷的PDP的制造方法，在同一个工艺中进行两次光刻法中的曝光，在第一次曝光与第二次曝光之间使光掩模(22)在曝光图形偏移的允许范围内移动，使光掩模(22)移动，与其移动前后相对应进行两次曝光，能够排除由附着在光掩模(22)上的灰尘(22b)遮挡曝光而成为未感光的区域(21a)，由此，能够良好地进行感光性Ag膏膜(21)的图形曝光。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 显示屏 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种等离子体显示屏的制造方法，该等离子体显示屏的制造方法通过光刻法进行等离子体显示屏的构造物的形成，其特征在于：上述等离子体显示屏的构造物的至少一个在其形成工艺中进行两次曝光，在第一次曝光与第二次曝光之间，使光掩模在曝光图形偏移的允许范围内移动。
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