[发明专利]缺陷修正装置及其缺陷修正方法无效
| 申请号： | 200480000456.2 | 申请日： | 2004-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN1697995A | 公开（公告）日： | 2005-11-16 |
| 发明（设计）人： | 堀内一仁;秋山周次;阿部政弘;大西孝明 | 申请（专利权）人： | 奥林巴斯株式会社 |
| 主分类号： | G02F1/13 | 分类号： | G02F1/13 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 黄剑锋 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种缺陷修正装置及其缺陷修正方法。该缺陷修正装置包括：缺陷检测部(41)，通过与参照图像的比较，检测在基板上产生的缺陷；禁止区域设定部(39)，对位于驱动电路元件(23)上或布线(21、22)上的缺陷设定修正的禁止区域(KA)；修正区域设定部(44)，将除了落在禁止区域(KA)上的部分以外的缺陷部分和与禁止区域(KA)无关的缺陷设定为修正区域；优先级设定部(5)，对修正区域设定修正顺序的优先级；以及修正部(31)，根据优先级修正缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 缺陷 修正 装置 及其 方法 | ||
【主权项】：
1、一种缺陷修正装置，通过激光的照射修正基板上的缺陷，其特征在于，包括：缺陷检测部，检测上述基板上的缺陷；优先级设定部，对由上述缺陷检测部检测出的上述缺陷，设定修正顺序的优先级；以及修正部，根据上述优先级，对缺陷照射上述激光进行修正。
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