[发明专利]氮化镓系发光器件有效

专利信息
申请号: 200480000484.4 申请日: 2004-04-16
公开(公告)号: CN1698215A 公开(公告)日: 2005-11-16
发明(设计)人: 佐藤寿朗;和田直树;酒井士郎;木村真大 申请(专利权)人: 氮化物半导体株式会社
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;H01S5/343
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 刘宗杰;叶恺东
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明是使用了GaN系半导体的发光器件。发光器件具有n型包层(124)、由n型第1势垒层(126)、阱层(128)和第2势垒层(130)构成的有源层(129)、p型阻挡层(132)、p型包层(134)。在p型阻挡层(132)的带隙能量Egb、第2势垒层(130)的带隙能量Eg2、第1势垒层(126)的带隙能量Eg1、n型及p型包层(124)、(134)的带隙能量Egc方面,通过使Egb>Eg2>Eg1≥Egc,能够有效地封闭载流子,增大发光强度。
搜索关键词: 氮化 发光 器件
【主权项】:
1.一种氮化镓系发光器件,它具有:衬底;在上述衬底上形成的第1导电型的包层;在上述包层上形成的有源层;以及在上述有源层上形成的第2导电型包层,上述有源层具有由氮化镓系化合物半导体层构成的势垒层及阱层,其特征在于:上述有源层的上述势垒层具有被在上述第1导电型的包层侧形成的第1势垒层及上述阱层夹持的第2势垒层;在上述有源层与上述第2导电型的包层之间具有第2导电型的载流子阻挡层;上述载流子阻挡层的带隙Egb、第2势垒层的带隙Eg2、第1势垒层的带隙Eg1、包层的带隙Egc满足Egb>Eg2>Eg1≥Egc。
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