[发明专利]退火设备和退火方法无效

专利信息
申请号: 200480000523.0 申请日: 2004-05-21
公开(公告)号: CN1698110A 公开(公告)日: 2005-11-16
发明(设计)人: 藤田五郎;三木刚;田中靖人;坂本哲洋;藤家和彦 申请(专利权)人: 索尼株式会社
主分类号: G11B11/105 分类号: G11B11/105
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 康建忠
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种适合于对磁光记录介质进行退火处理的退火设备,它包括把从激光光源(1)发出的光束光学分离成作为0阶衍射光束的第一光束,和作为1阶衍射光束的第二及第三光束的衍射光学单元(3),会聚第一光束,把这样会聚的第一光束照射到引导凹槽或在引导凹槽两侧形成的凸台部分的磁性层上,以及会聚第二和第三光束,把这样会聚的第二和第三光束照射到引导凹槽和凸台部分之间的边界部分附近的磁性层上的物镜(5),和根据基于第一光束的返回光线的光通量的强度分布产生的第一跟踪误差信号的线形特性,控制物镜(5),从而第一光束沿引导凹槽或凸台部分而行的双轴促动器单元(6)。
搜索关键词: 退火 设备 方法
【主权项】:
1、一种适合于使磁光记录介质的磁性层退火的退火设备,所述退火设备包括:发出具有预定波长的光束的光源;把从光源发出的光束光学分离成作为0阶衍射光束的第一光束,和作为1阶衍射光束的第二及第三光束的衍射光学装置,其中在使第二和第三光束的每个光束输出成为使磁性层退火所必需的光束输出的情况下,衍射光学装置用于调节第一光束与第二和第三光束之间的光通量比,以致第一光束的光束输出等于或小于进行退火处理所必需的光束输出,从而光学分离这样获得的光束;会聚在衍射光学装置光学分离的第一光束,把这样会聚的第一光束照射到已在磁光记录介质上形成的引导凹槽或在引导凹槽两侧形成的凸台部分的磁性层上,以及会聚第二和第三光束,把这样会聚的第二和第三光束照射到引导凹槽和凸台部分之间的边界部分附近的磁性层上的照射装置;检测已照射到引导凹槽的磁性层上的第一光束的返回光线的光通量的强度分布的第一强度分布检测装置;根据第一检测装置检测的第一光束的返回光线的光通量的强度分布,产生第一跟踪误差信号的第一跟踪误差信号产生装置;和根据第一跟踪误差信号产生装置产生的第一跟踪误差信号的线形特性,以使第一光束沿着引导凹槽或凸台部分而行的方式,控制照射装置的控制装置。
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