[发明专利]化学放大型正性光致抗蚀剂组合物及抗蚀图案的形成方法无效

专利信息
申请号: 200480000692.4 申请日: 2004-05-19
公开(公告)号: CN1698016A 公开(公告)日: 2005-11-16
发明(设计)人: 丸山健治;栗原政树;宫城贤;新仓聪;嶋谷聪;增岛正宏;新田和行;山口敏弘;土井宏介 申请(专利权)人: 东京应化工业株式会社
主分类号: G03F7/039 分类号: G03F7/039
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 柳春琦
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供了一种化学放大型正性光致抗蚀剂组合物,它具有极好的以抗蚀剂溶液形式在瓶中储存的稳定性。酚醛清漆树脂或羟基苯乙烯树脂与交联剂反应给出微溶于碱或不溶于碱的树脂,它具有在酸存在下可提高其在碱性水溶液中溶解度的这种特性,然后这种树脂溶于有机溶剂,与(B)在射线照射下产生酸的一种化合物一起得到化学放大型正性光致抗蚀剂组合物,其中酸性成分的含量为10ppm或10ppm以下。
搜索关键词: 化学 大型 正性光致抗蚀剂 组合 图案 形成 方法
【主权项】:
1.一种化学放大型正性光致抗蚀剂组合物,它通过溶解下列物质来制备:(A)一种微溶于碱或不溶于碱的酚醛清漆树脂,它具有在酸存在下可提高其在碱性水溶液中溶解度的特性,并含有结构单元(a1)和分子间交联部分(a2)中的任意一种或二者,结构单元(a1)由下列通式(I)表示:其中R1表示具有1~10个碳原子并可带有取代基的亚烷基,或是由下列通式(II)表示的基团:(其中R4表示具有1~10个碳原子并可带有取代基的亚烷基,及m表示0或1),此亚烷基主链上可具有氧键(醚键),R2和R3各独立地表示氢原子或具有1~3个碳原子的烷基,及n表示1~3的整数;分子间交联部分(a2)由下列通式(III)表示:其中R1表示具有1~10个碳原子并可带有取代基的亚烷基,或是由上述通式(II)表示的基团(其中R4表示具有1~10个碳原子并可带有取代基的亚烷基,及m表示0或1),此亚烷基主链上可具有氧键(醚键),R2和R3各独立地表示氢原子或具有1~3个碳原子的烷基,及n表示1~3的整数;及(B)一种在射线照射下在有机溶剂中产生酸的化合物,其中酸性成分的含量是10ppm或10ppm以下。
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