[发明专利]化学放大型正性光致抗蚀剂组合物以及形成抗蚀剂图案的方法有效
| 申请号： | 200480000888.3 | 申请日： | 2004-05-20 |
| 公开（公告）号： | CN1701280A | 公开（公告）日： | 2005-11-23 |
| 发明（设计）人： | 中川裕介;秀坂慎一;丸山健治;嶋谷聪;增岛正宏;新田和行 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 陈长会 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供一种化学放大型正性光致抗蚀剂组合物和形成抗蚀剂图案的方法，所述组合物具有高灵敏度、高耐热性和高分辨率(高对比度)并能够抑制波动现象。制备包括含有羟基苯乙烯构成单元(a1)和苯乙烯构成单元(a2)的碱溶树脂(A)、交联剂(B)、光酸生成剂(C)和有机溶剂的化学放大型正性光致抗蚀剂组合物，并且使用该组合物形成抗蚀剂图案。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 大型 正性光致抗蚀剂 组合 以及 形成 抗蚀剂 图案 方法 | ||
【主权项】：
1.一种化学放大型正性光致抗蚀剂组合物，它包括(A)碱溶树脂、(B)由通式(III)表示的化合物、(C)在使用射线辐照下产生酸组分的化合物和有机溶剂，其中(A)碱溶树脂含有由下列通式(I)表示的构成单元(a1)和通式(II)表示的构成单元(a2)：![]()
其中R表示氢原子或甲基；![]()
其中R表示氢原子或甲基，R1表示具有1～5个碳原子的烷基，而n表示0或1～3的整数；表示(B)化合物的通式(III)如下H2C＝CH-O-R2-O-CH＝CH2 …(III)其中R2表示可以带有取代基的具有1～10个碳原子的链烯基或者由下列通式(IV)表示的基团：![]()
(其中R3表示可以带有取代基的具有1～10个碳原子的链烯基，而m表示0或1)，链烯基可以在主链中具有氧键(醚键)。
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