[发明专利]基于两种不同X射线频谱的成像方法无效

专利信息
申请号: 200480001240.8 申请日: 2004-03-02
公开(公告)号: CN1705457A 公开(公告)日: 2005-12-07
发明(设计)人: 比约恩·海斯曼 申请(专利权)人: 西门子公司
主分类号: A61B6/03 分类号: A61B6/03
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 马莹;邵亚丽
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 发明涉及对检查对象、特别是患者(P)进行成像检查的方法。其中,首先给检查对象注射造影剂(KM)。然后至少确定两个X射线衰减值的空间分布,这些空间分布分别表示局部X射线衰减系数(μ(x,y))或与其线性相关的量(C)。该两个空间分布至少包括:基于第一X射线频谱确定的第一衰减值分布(μ1(x,y));基于与第一X射线频谱不同的第二X射线频谱确定的第二衰减值分布(μ间分布的分析,确定一个或多个预定的原子序数值(Z;Z1,Z2,···)的空间分布,或确定包含关于造影剂(KM)在检查对象体内分布信息的、未预定义的检查对象中现有的原子序数值的空间分布(Z(x,y))。将原子序数空间分布用于图像中的造影剂(KM)显示。
搜索关键词: 基于 不同 射线 频谱 成像 方法
【主权项】:
1.一种用于对检查对象、特别是患者(P)进行成像检查的方法,其中,a)为该检查对象注射造影剂(KM),b)然后至少确定两个X射线衰减值的空间分布(μ1(x,y),μ2(x,y)),这些X射线衰减值分别表示局部X射线衰减系数(μ(x,y))或与其线性相关的量(C),其中,所述两个空间分布(μ1(x,y),μ2(x,y))至少包括:-基于第一X射线频谱确定的第一衰减值分布(μ1(x,y)),-基于与该第一X射线频谱不同的第二X射线频谱确定的第二衰减值分布(μ2(x,y)),c)通过对所述两个衰减值空间分布(μ1(x,y),μ2(x,y))的分析,确定一个或多个预定原子序数值(Z;Z1,Z2,...)的空间分布,或者确定包含关于所注射的造影剂(KM)在检查对象体内分布的信息的、未预定义的检查对象中现有的原子序数值的空间分布(Z(x,y)),和d)将所述原子序数空间分布(Z(x,y))用于造影剂(KM)成像显示。
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