[发明专利]具有弱耦合层状无机半导体的场效应晶体管无效

专利信息
申请号: 200480001314.8 申请日: 2004-09-21
公开(公告)号: CN1706036A 公开(公告)日: 2005-12-07
发明(设计)人: 恩斯特·布赫;迈克尔·E·格申森;克里斯蒂安·克洛克;维塔利·波佐罗夫 申请(专利权)人: 朗迅科技公司;拉特格斯;新泽西州立大学
主分类号: H01L21/336 分类号: H01L21/336;H01L29/786
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 王永刚
地址: 美国新*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种场效应晶体管,包括源、漏和栅电极;无机半导体晶体或多晶层;以及介质层。无机半导体层具有从源电极向漏电极物理延伸的有源沟道部分。无机半导体具有2维多层的叠层,其中层内键合力是共价和/或离子键。所述多层的相邻层由比共价和离子键合力弱得多的力键合在一起。介质层被插入在栅电极和无机半导体材料层之间。栅电极被设置成控制无机半导体层的有源沟道部分的导电性。
搜索关键词: 具有 耦合 层状 无机 半导体 场效应 晶体管
【主权项】:
1.一种设备,包括场效应晶体管,该晶体管包括:源、漏和栅电极;具有从源电极向漏电极物理延伸的有源沟道部分的无机半导体晶体或多晶层,无机半导体具有2维多层的叠层,其中层内键合力是共价和/或离子键,多层中相邻的层由比共价和离子键合力弱得多的力键合在一起;以及插入在栅电极和无机半导体材料层之间的介质层,栅电极被构造成控制无机半导体层的有源沟道部分的导电性。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于朗迅科技公司;拉特格斯;新泽西州立大学,未经朗迅科技公司;拉特格斯;新泽西州立大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200480001314.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top