[发明专利]透明导电膜的形成方法及透明电极有效

专利信息
申请号: 200480001692.6 申请日: 2004-12-17
公开(公告)号: CN1723510A 公开(公告)日: 2006-01-18
发明(设计)人: 浮岛祯之;竹井日出夫;石桥晓;厚木勉;小田正明;山口浩史 申请(专利权)人: 株式会社爱发科
主分类号: H01B13/00 分类号: H01B13/00;B05D3/02;B05D5/12
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 王健
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 把含有选自铟、锡、锑、铝及锌的金属微粒,这些金属的二种以上的金属组成的合金微粒,或这些微粒的混合物的分散液涂布在基材上后,在真空气氛、惰性气体气氛、还原性气氛中进行烧成,然后,在氧化性气氛中进行烧成。在该氧化性气氛中烧成后,还可以再在还原性气氛中进行烧成。惰性气体气氛是选自稀有气体、二氧化碳及氮的气体的气氛,还原性气氛是选自氢、一氧化碳及低级醇的气体的气氛。由采用上述方法形成的透明导电膜构成的透明电极。采用低温烧成形成具有低电阻且高透过率的透明导电膜。
搜索关键词: 透明 导电 形成 方法 电极
【主权项】:
1.透明导电膜的形成方法,其特征在于,把含有选自铟、锡、锑、铝及锌的至少1种的金属微粒,选自这些金属的2种以上的金属组成的合金的至少1种的微粒,或这些微粒混合物的分散液涂布在基材上后,在金属或合金不氧化的气氛中进行烧成,然后在氧化性气氛中进行烧成、形成透明导电膜。
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