[发明专利]磁记录介质、其制造方法及磁读/写装置无效
| 申请号： | 200480002118.2 | 申请日： | 2004-01-14 |
| 公开（公告）号： | CN1735932A | 公开（公告）日： | 2006-02-15 |
| 发明（设计）人： | 清水谦治;坂胁彰;小林一雄;N·T·董;酒井浩志;彦坂和志;及川壮一;前田知幸;中村太 | 申请（专利权）人： | 昭和电工株式会社;株式会社东芝 |
| 主分类号： | G11B5/64 | 分类号： | G11B5/64 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 杨晓光;于静 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种磁记录介质，其在非磁性基片上提供软磁性底涂膜、第一底涂膜、第二底涂膜、垂直磁记录膜、以及保护膜，并且所述第一底涂膜由Pt、Pd或包括Pt和Pd中至少一种的合金构成，所述第二底涂膜由Ru或Ru合金构成。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 介质 制造 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种磁记录介质，其在非磁性基片上提供至少软磁性底涂膜、第一底涂膜，其控制在其紧上方的膜的取向、第二底涂膜、垂直磁记录膜，其易磁化轴通常取向为垂直于所述基片、以及保护膜，其中所述第一底涂膜由Pt、Pd或包括Pt和Pd中至少一种的合金构成，并且所述第二底涂膜由Ru或Ru合金构成。
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