[发明专利]荧光X射线分析装置有效

专利信息
申请号: 200480002206.2 申请日: 2004-03-11
公开(公告)号: CN1739022A 公开(公告)日: 2006-02-22
发明(设计)人: 迫幸雄 申请(专利权)人: 理学电机工业株式会社
主分类号: G01N23/223 分类号: G01N23/223
代理公司: 北京三幸商标专利事务所 代理人: 刘激扬
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明的课题在于提供一种进行氦置换的荧光X射线分析装置,容易更换试样室和照射室之间的隔壁膜,在分析时,试样室的空气不流入照射室。第1支架(21)按照其窗(21a)与试样室(3)和照射室(8)之间的壁部(4)的窗(4a)重合的方式气密地安装于壁部(4)上,按照覆盖第1支架的窗(21a)的方式设置隔壁膜(9)。第2支架(23)按照其窗(23a)夹持隔壁膜(9),与第1支架的窗(21a)重合的方式设置。另外,支架(21,23)中的其中一个为永久磁铁,另一个由吸附于其上的材料形成,支架(21,23)夹持隔壁膜(9)的周边部,并且第2支架(23)可相对第1支架(21)而装卸。
搜索关键词: 荧光 射线 分析 装置
【主权项】:
1.一种荧光X射线分析装置,该荧光X射线分析装置包括:在大气气氛中试样以可更换的方式接纳的试样室;接纳对试样照射1次X射线的X射线源的照射室;隔壁膜,该隔壁膜按照覆盖设置于分隔上述试样室和照射室的壁部上的窗的方式设置,使X射线通过;分光室,该分光室接纳有对从试样产生的荧光X射线进行分光,并对其检测的检测机构,该分光室与上述照射室连通;该荧光X射线分析装置对上述照射室和分光室进行氦置换;其特征在于:具有窗的第1支架按照该窗与上述壁部的窗重合的方式以气密方式安装于壁部上;按照覆盖与上述壁部的窗重合的第1支架的窗的方式设置上述隔壁膜;具有窗的第2支架按照该窗夹持上述隔壁膜,与上述第1支架的窗重合的方式设置;上述第1支架和第2支架中的一个由永久磁铁形成,另一个由吸附于永久磁铁上的材料形成,由此,上述第1支架和第2支架沿其厚度方向夹持上述隔壁膜的周边部,并且上述第2支架可相对以气密方式安装于上述壁部上的第1支架而自由装卸。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于理学电机工业株式会社,未经理学电机工业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200480002206.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top