[发明专利]等离子体处理装置和等离子体处理方法无效

专利信息
申请号: 200480002531.9 申请日: 2004-01-26
公开(公告)号: CN1742522A 公开(公告)日: 2006-03-01
发明(设计)人: 石井信雄;筱原己拔 申请(专利权)人: 东京威力科创股份有限公司
主分类号: H05H1/46 分类号: H05H1/46;H01L21/3065
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 陈瑞丰
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种等离子体处理装置,包括上面放置有目标物体的工作台、容纳工作台并通过高频电磁场在其中产生等离子体的容器、产生高频电磁场的高频振荡器(30),以及输出功率低于高频振荡器(30)且振荡频率稳定的参考振荡器(34)。所述参考振荡器(34)产生的参考信号被注入高频振荡器(30)中,将高频振荡器(30)的振荡频率固定在参考信号的频率。从而,当在高频振荡器(30)与容器之间设置自动匹配装置,并根据参考信号的频率设计容器时,能够实现精确的负载匹配,提高能量效率。
搜索关键词: 等离子体 处理 装置 方法
【主权项】:
1.一种等离子体处理装置,其特征在于,它包括:工作台,它上面设置目标物体;容纳所述工作台的容器,并在该容器中通过供送给其中的高频电磁场产生等离子体;产生高频电磁场的高频振荡器;输出功率低于所述高频振荡器且振荡频率稳定的参考振荡器;其中,所述参考振荡器产生的参考信号被注入所述高频振荡器中,将所述高频振荡器的振荡频率固定在该参考信号的频率。
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