[发明专利]研磨半导体晶圆的设备及方法无效

专利信息
申请号: 200480002944.7 申请日: 2004-01-27
公开(公告)号: CN1741875A 公开(公告)日: 2006-03-01
发明(设计)人: 丁寅权 申请(专利权)人: 丁寅权
主分类号: B24B1/00 分类号: B24B1/00;B24B29/00
代理公司: 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 代理人: 寿宁
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明是有关于一种研磨半导体晶圆的设备及方法,该用以研磨物件(例如:半导体晶圆)的设备及方法使用一个或多个可枢转装载/卸载盘,以将上述物件转运至一个或多个物件载具及/或从上述一个或多个物件载具转运上述物件,以研磨上述物件。每一可枢转装载/卸载盘可配置成用以将上述物件转运至一单一物件载具及/或从上述单一物件载具转运上述物件。在另一情况中,每一可枢转装载/卸载盘可配置成用以将上述物件转运至两个物件载具及/或从上述两个物件载具转运上述物件。上述可枢转装载/卸载盘可配置成以至少一研磨表面(例如:一研磨垫表面)上方的一个或多个枢转点为中心来枢转。
搜索关键词: 研磨 半导体 设备 方法
【主权项】:
1、一种用以研磨物件的设备,其特征在于其包括:一研磨表面;一物件载具,放置于该研磨表面上方;以及一装载/卸载盘,配置成以该研磨表面上方的一枢转点为中心枢转至该物件载具,以便可将该物件从该装载/卸载盘转运至该物件载具。
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