[发明专利]相位差薄膜及其制造方法无效
| 申请号： | 200480003448.3 | 申请日： | 2004-01-26 |
| 公开（公告）号： | CN1748159A | 公开（公告）日： | 2006-03-15 |
| 发明（设计）人： | 首藤俊介;小林弘明;松永卓也 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02F1/13363 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 陈建全 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供了一种高精度地控制了相位差层的取向方向，且制造成本低的相位差薄膜及其制造方法。参照图1进行说明：准备在透明基材(10)上层叠光学各向异性层(11)得到的带有基材的各向异性层(12)。然后，在光学各向异性层(11)上，涂覆含有在偏振紫外线光下发生反应的聚合物和液晶性化合物的溶液，干燥。之后用偏振紫外线光照射，对上述液晶性化合物进行取向，再根据需要，用非偏振紫外线光照射，交联上述液晶性化合物，从而在上述光学各向异性层(11)上直接形成相位差层(13)，制得相位差薄膜(1)。 | ||
| 搜索关键词： | 相位差 薄膜 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、一种相位差薄膜，其包含光学各向异性层和相位差层，所述相位差层包含取向了的液晶性化合物，其特征在于，所述相位差层被直接层叠在所述光学各向异性层上。
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