[发明专利]相位差板制造方法无效

专利信息
申请号: 200480003527.4 申请日: 2004-01-26
公开(公告)号: CN1748160A 公开(公告)日: 2006-03-15
发明(设计)人: 首藤俊介;宫武稔;辻内直树;宫崎顺三;松永卓也 申请(专利权)人: 日东电工株式会社
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;G02F1/13363
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 陈建全
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供了一种可以制造薄型并没有外观缺陷的高性能相位差板的制造方法。首先,如图1所示,在透明基材(1)上,通过涂覆液晶性化合物的溶液并使之干燥,或者涂覆熔融的液晶性化合物,从而形成液晶性化合物含有层(2a)。之后,如图1b所示,使液晶性化合物含有层(2a)液晶化或者液化,形成熔融层(2b),在其上接触取向基板(3),将上述液晶化合物取向为特定的方向。之后,在将上述液晶化合物取向为特定的方向后,如图1c所示,将熔融的液晶性化合物含有层(2b)固体化,除去取向基板(3),制造由透明基材(1)和光学各向异性层(2c)构成的相位差板(4)。
搜索关键词: 相位差 制造 方法
【主权项】:
1、一种在透明基材上形成光学各向异性层的相位差板的制造方法,其特征在于,包含下述(1)-(4)的工序:(1)在不具有液晶取向能力的所述透明基材上形成液晶性化合物含有层的工序;(2)使具有液晶取向能力的取向基板与所述液晶性化合物含有层接触,使所述层的液晶性化合物取向的工序;(3)将所述层的液晶性化合物的所述取向状态固定化以形成光学各向异性层的工序;(4)除去所述取向基板的工序。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日东电工株式会社,未经日东电工株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200480003527.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code