[发明专利]纳米碳制造装置和纳米碳制造方法无效
| 申请号： | 200480003870.9 | 申请日： | 2004-02-10 |
| 公开（公告）号： | CN1747895A | 公开（公告）日： | 2006-03-15 |
| 发明（设计）人： | 莇丈史;真子隆志;吉武务;久保佳实;饭岛澄男;汤田坂雅子;糟屋大介 | 申请（专利权）人： | 日本电气株式会社 |
| 主分类号： | C01B31/02 | 分类号： | C01B31/02 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 穆德骏;樊卫民 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供用于稳定地大量制造纳米碳的制造方法和制造装置。在制造腔室(107)中，将圆筒形石墨棒(101)固定至旋转装置(115)上，并使得能够以石墨棒(101)的长度方向为轴进行旋转，且还可以在长度方向上左右移动。用来自激光源(111)的激光束(103)照射石墨棒(101)的侧面，并在烟羽(109)的产生方向上设置纳米碳收集腔室(119)。另一方面，通过旋转装置(115)将石墨棒(101)的侧面中被激光束(103)照射的侧面快速旋转，并通过切削工具(105)将该侧面平滑化。由切削工具(105)产生出的石墨棒(101)的切削碎屑被收集入切削石墨收集腔室(121)，并与所产生的碳纳米突集合体(117)分离。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米 制造 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.纳米碳制造装置，其包含：光源，用于光照射石墨靶的表面；表面处理单元，用于平滑化被光照射的所述石墨靶表面；和收集单元，用于收集经光照射从石墨靶蒸发的碳蒸气作为纳米碳。
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