[发明专利]具有高相对反馈的激光源及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200480004111.4 申请日: 2004-02-09
公开(公告)号: CN1751421A 公开(公告)日: 2006-03-22
发明(设计)人: N·马图谢克;S·莫尔迪克;T·普利斯卡 申请(专利权)人: 布克哈姆技术公共有限公司
主分类号: H01S5/14 分类号: H01S5/14
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 王岳;梁永
地址: 英国*** 国省代码: 英国;GB
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摘要: 发明涉及使广泛用于光通信领域的高功率半导体激光二极管光源稳定化。这种激光器多数用作光纤放大器,例如掺铒光纤放大器的所谓泵浦激光源,并且其被设计成在给定的频段内提供具有稳定功率输出的窄带光辐射。为了在离开有源温度稳定元件进行工作时改善这种激光源的波长锁定范围,使用了具有很高的相对反馈的外部反射器。为了改善该激光源的稳定性,该外部反射器的反射率带宽可展宽。在通常使用的用于引导激光束的光纤中,通过一个或多个适当设计的光纤布拉格光栅形成该外部反射器。
搜索关键词: 具有 相对 反馈 激光 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种用于在给定波长处产生稳定出射光束(10)的高功率激光源,所述激光源包括激光二极管(1)和用于引导激光束(4)的导光装置(7,8,9),所述的激光二极管包括反射前端面(2),以及所述的导光装置包括至少一个反射器(8),其中——所述反射器(9)具有以所述出射光束(10)的所需波长为中心的反射率RFBG,——所述前端面(2)具有反射率RF,朝向所述导光装置(7,8,9),——选择所述反射率RFBG和RF,以获得预定的相对反馈rFB=k*RFBG/RF>1,k是在所述导光装置(7,8,9)中由耦合效率确定的系数。
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