[发明专利]等离子加工装置无效
| 申请号： | 200480004782.0 | 申请日： | 2004-02-20 |
| 公开（公告）号： | CN1751384A | 公开（公告）日： | 2006-03-22 |
| 发明（设计）人： | 山本直子;山本达志;平山昌树;大见忠弘 | 申请（专利权）人： | 夏普株式会社;大见忠弘 |
| 主分类号： | H01L21/3065 | 分类号： | H01L21/3065 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 沈昭坤 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种等离子加工装置包括：处理室；具有靠谐振形成微波的第1驻波的内部空间(20)的引入波导管(4)；在内部靠谐振形成微波的第2驻波的介质(5p、5q)；以及具有使微波从内部空间(20)通向介质(5p、5q)用的缝隙(6a)的缝隙天线(6)。缝隙(6a)设置成近似位于将形成第1驻波波腹的位置对于缝隙天线(6)垂直地投影的地点和将形成第2驻波波腹的位置对于缝隙天线(6)垂直地投影的地点一致的地点。根据本发明，能提供一种通过提高穿过缝隙天线开口部的微波的传播效率、从而将微波的能量高效地引入处理室的等离子加工装置。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子 加工 装置 | ||
【主权项】：
1.一种等离子加工装置，其特征在于，包括利用等离子进行处理用的处理室(13)；具有靠谐振形成微波的第1驻波的内部空间(20)、并将微波导向所述处理室(13)的微波引入单元(4)；为了对所述处理室(13)内辐射微波而在所述处理室(13)和所述微波引入单元(4)之间面向所述内部空间(20)设置的、并在内部靠谐振形成微波的第2驻波的介质(5)；以及具有让微波从所述内部空间(20)通向所述介质(5)用的开口部(6a)、并设置成覆盖所述介质(5)面向所述内部空间(20)一侧的缝隙天线(6)，所述开口部(6a)设置成大致位于将形成第1驻波波腹的位置对于所述缝隙天线(6)垂直地投影的地点和将形成第2驻波波腹的位置对于所述缝隙天线(6)垂直地投影的地点一致的地点。
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