[发明专利]光致抗蚀剂组合物用的溶解速率改性剂

摘要

本发明公开多环烯烃单体及任选的烯丙基或烯基单体的低聚物，及制备这种低聚物的方法，该方法包括在含有Ni或Pd催化剂的存在下使多环烯烃单体反应，或在自由基引发剂存在下使烯丙基单体反应。这种低聚物可以包括在光致抗蚀剂组合物中作为溶解速率改性剂。光致抗蚀剂组合物还可以包括聚合粘合剂树脂、光致产酸剂和溶剂。

主权项

1.一种溶解速率改性剂，其包括：一种含有重复单元的低聚物，所述重复单元衍生于式A、B、C、D和/或E中的一种或多种单体： 式A 式B式C式D式E所述重复单元包括衍生于单体的第一重复单元及任选的其他重复单元，所述第一重复单元的单体包括式A和/或式E的氟化酸不稳定基团取代基，所述其他重复单元的单体包括式A、B、C、D或E中的一种或多种，条件是如果式A的单体不存在，那么必须包括式E的单体，如果存在式D或E的单体，那么必须存在至少一种式A、B或C的单体，条件是如果至少一种重复单元衍生于式D或E，那么包括使用自由基催化剂得到低聚物，如果所述重复单元仅衍生于式A、B和/或C的单体，那么包括使用含Ni或Pd的催化剂得到低聚物；其中m是0～5的整数；Z是-CH2-、-CH2-CH2-、-O-、-S-或-NH-，其中R1、R2、R3、R4中的至少一种取代基独立地是具有1～约10个碳原子并任选地被酸不稳定基团保护的氟化甲醇；其余R1、R2、R3、R4 独立地是氢、卤素、或含有1～约20个碳原子的烃基、或具有1～约20个碳原子并在任何氢原子处被O、S、N或Si取代的烃基、或具有1～约20个碳原子的氟化烃基，其中每个碳原子独立地被0、1、2或3个氟原子取代；其中R5、R6、R7或R8中的至少一种独立地含有酸不稳定部分，其余一种或多种R5、R6、R7或R8独立地是氢、卤素、或具有1～约20个碳原子的烃基、或具有1～约20个碳原子并在任何氢原子处被O、S、N或Si取代的烃基、或具有1～约20个碳原子的氟化烃基，其中每个碳原子独立地被0、1、2或3个氟原子所取代；其中R9、R10、R11或R12独立地选自氢原子、具有1～约20个碳原子的烃基、具有1～约20个碳原子在任何氢原子处被O、S、N或Si取代并任选地含有环氧基、羟基、和/或羧酸官能团的烃基；其中Y是具有1～约10个碳原子并任选地被酸不稳定基团保护的氟化甲醇，X是OH、CN、OC(O)R13、C(O)OR13、OR13、N(R13)2，其中R13是含有1～约12个碳原子的直链或支链或环脂族烃基，任选地所述烃基的至少一个碳原子含有1、2或3个氟原子；通过凝胶渗透色谱法测量的所述低聚物的重均分子量(Mw)小于约3,000。