[发明专利]光致抗蚀剂组合物和抗蚀图案的形成方法无效
| 申请号： | 200480004937.0 | 申请日： | 2004-02-25 |
| 公开（公告）号： | CN1754125A | 公开（公告）日： | 2006-03-29 |
| 发明（设计）人： | 平山拓;藤村悟史;远藤浩太朗;石塚启太 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/038;G03F7/039 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 朱丹 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种光致抗蚀剂组合物，包括树脂成分(A)、产酸剂成分(B)、有机溶剂(C)、和用下述通式(1)表示的含氮有机化合物(D)；[式中，X、Y、Z相互独立，是可以在末端结合芳基的烷基(该X、Y和Z中的两个末端可以结合形成环状结构)，而且X、Y、Z中的至少一个含有极性基团，进而化合物(D)的分子量为200以上]。由此，本发明的光致抗蚀剂组合物可以使用于线缘粗糙度小、抗蚀图案轮廓形状出色的、包括浸润光刻技术的抗蚀图案的形成方法。 | ||
| 搜索关键词： | 光致抗蚀剂 组合 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光致抗蚀剂组合物，是在包含浸渍曝光工序的抗蚀图案形成方法中使用的光致抗蚀剂组合物，其特征在于，包括在酸的作用下碱溶性发生变化的树脂成分(A)、通过曝光生成酸的产酸剂成分(B)、有机溶剂(C)、和用下述通式(1)表示的含氮有机化合物(D)；![]()
式中，X、Y、Z相互独立，表示可以在末端结合芳基的烷基，该X、Y和Z中的两个末端可以结合形成环状结构，而且X、Y、Z中的一个以上基团含有极性基团，化合物(D)的分子量为200以上。
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