[发明专利]β-Ga2O3单晶生长方法、薄膜单晶生长方法、Ga2O3发光器件及其制造方法有效
申请号: | 200480005007.7 | 申请日: | 2004-02-16 |
公开(公告)号: | CN1754013A | 公开(公告)日: | 2006-03-29 |
发明(设计)人: | 一之濑升;岛村清史;青木和夫;恩卡纳西翁·安东尼亚·加西亚·比略拉 | 申请(专利权)人: | 学校法人早稻田大学 |
主分类号: | C30B29/16 | 分类号: | C30B29/16;C30B13/24;H01L33/00;H01S5/323 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人: | 顾晋伟;刘继富 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 公开了生长几乎不开裂、具有弱化的孪晶倾向和改进的结晶性的β-Ga2O3单晶的方法,生长具有高品质薄膜单晶的方法,能够在紫外区发光的Ga2O3发光器件及其制造方法。在红外加热的单晶制造系统中,种晶和多晶材料以相对方向旋转并加热,β-Ga2O3单晶沿选自a轴<100>方向、b轴<010>方向和c轴<001>方向的一个方向生长。β-Ga2O3单晶薄膜由PLD形成。将激光束施加于目标物上以激发构成目标物的原子。Ga原子通过热和光化学作用从目标物释放。游离的Ga原子与室中气体中的自由基结合。因此,β-Ga2O3单晶薄膜生长在β-Ga2O3单晶衬底上。所述的发光器件包括以n型掺杂物掺杂β-Ga2O3单晶产生的n型衬底和以p型掺杂物掺杂β-Ga2O3单晶产生并连接到n型衬底的p型衬底。所述发光器件从结合部分发光。 | ||
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【主权项】:
1.一种β-Ga2O3单晶生长方法,其特征在于:制备β-Ga2O3种晶;和沿预定方向从β-Ga2O3种晶生长β-Ga2O3单晶。
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