[发明专利]制造已经受低反射处理的制品的方法,形成低反射层的溶液和经受低反射处理的制品无效
| 申请号： | 200480005121.X | 申请日： | 2004-02-06 |
| 公开（公告）号： | CN1754108A | 公开（公告）日： | 2006-03-29 |
| 发明（设计）人： | 高桥康史 | 申请（专利权）人： | SDC技术－亚洲株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/10 | 分类号： | G02B1/10;B32B7/02;C08J7/04 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 刘明海 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种低反射处理的制品制造方法，其中低反射层溶液由混合和反应下列物质得到：(1)二氧化硅微粒，其包括至少一种选自平均粒径为40－1000nm的非聚集的二氧化硅微粒、平均粒径为10－100nm的空心的、非聚集的二氧化硅微粒和平均初级粒径为10－100nm的链状聚集的二氧化硅微粒的二氧化硅微粒，(2)可水解的硅化合物、水和包含用于上述硅化合物的溶剂和水解催化剂的粘合剂溶液，以水解上述硅化合物和(3)加入促进硅烷醇基缩合的固化催化剂，将此低反射层溶液涂布到树脂基体材料上，然后在室温或室温到“基体材料不被破坏的温度”(就热塑性树脂来说为变形温度或更低或就硬化树脂来说为分解温度或更低)范围内反应和固化，形成含有二氧化硅微粒和粘合剂的固体重量比为30∶70到95∶5的低反射层。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 经受 反射 处理 制品 方法 形成 反射层 溶液 | ||
【主权项】：
1、一种低反射处理制品的制造方法，其中一种低反射层溶液由混合和反应下列物质得到：(1)二氧化硅微粒，其包括至少一种选自平均粒径为40-1000nm的非聚集的二氧化硅微粒、平均粒径为10-100nm的空心的、非聚集的二氧化硅微粒和平均初级粒径为10-100nm的链状聚集的二氧化硅微粒的二氧化硅微粒，(2)可水解的硅化合物、水和包含用于上述硅化合物的溶剂和水解催化剂的粘合剂溶液，以水解上述硅化合物和(3)加入促进硅烷醇基缩合的固化催化剂，将此低反射层溶液涂布到树脂基体材料上，然后在室温或室温到“基体材料不被破坏的温度”(就热塑性树脂来说为变形温度或更低或就硬化树脂来说为分解温度或更低)范围内反应和固化，形成含有二氧化硅微粒和粘合剂的固体重量比为30∶70到95∶5的低反射层。
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