[发明专利]共轴小角度暗场光照无效
| 申请号： | 200480005357.3 | 申请日： | 2004-01-27 |
| 公开（公告）号： | CN1754175A | 公开（公告）日： | 2006-03-29 |
| 发明（设计）人： | 莱奥·鲍德温 | 申请（专利权）人： | 电科学工业公司 |
| 主分类号： | G06K9/00 | 分类号： | G06K9/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 蒋世迅 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供一种共轴小角度暗场成像系统。本系统利用远心透镜，以对称的共轴小角度暗场照明来照明物体。该照明技术特别适合用于突出显示平面镜反射物体上细微的细节或疵点。光线通过远心透镜，反射回摄像机。就物体的平面镜反射部分反射的光线而言，这些光线被远心光阑阻挡。平面镜反射物体中的疵点或细节反射的光线，则通过摄像机光阑中的孔径。 | ||
| 搜索关键词： | 共轴小 角度 暗场 光照 | ||
【主权项】：
1.一种使平面镜反射物体上的疵点成像的成像系统，包括：有确定的轴和焦点的远心透镜，该远心透镜适合向摄像机提供该物体的像；照明光源，被放置用于沿远心透镜的轴照明该物体；和其内包含孔径的远心光阑，被放置用于阻挡从平面镜反射物体反射的光，同时让从疵点反射的光通过孔径。
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