[发明专利]免疫层析试验片的测定装置及光源装置有效
| 申请号： | 200480005396.3 | 申请日： | 2004-02-26 |
| 公开（公告）号： | CN1754093A | 公开（公告）日： | 2006-03-29 |
| 发明（设计）人： | 山内一德 | 申请（专利权）人： | 浜松光子学株式会社 |
| 主分类号： | G01N21/17 | 分类号： | G01N21/17 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种免疫层析试验片(5a)的测定装置，向免疫层析试验片(5a)照射测定光、而测定来自免疫层析试验片(5a)的光，其包括：接收来自免疫层析试验片(5a)的光的光电二极管(3a)，以及具有设置在免疫层析试验片(5a)和光电二极管(3a)之间的、用于将来自免疫层析试验片(5a)的光的一部分导入到光电二极管(3a)上的多条光通路(3b、3b、3b、3b)的测定头(4)。测定头(4)作为将由免疫层析试验片(5a)反射的不需要的光进行遮光的遮光部件而工作。多条光通路(3b、3b、3b、3b)沿着形成在免疫层析试验片(5a)上的线状的显色部(8)的延伸方向而并列设置。 | ||
| 搜索关键词： | 免疫 层析 试验 测定 装置 光源 | ||
【主权项】：
1.一种免疫层析试验片的测定装置，其包括：向免疫层析试验片照射测定光的照射光学系统，以及检测根据所述测定光的照射而产生的、来自所述免疫层析试验片的反射光的检测光学系统，其特征在于，所述照射光学系统包括：半导体发光元件；光束整形部件，其将来自所述半导体发光元件的光整形成具有沿着大致与形成在所述免疫层析试验片上的显色线平行的方向延伸的光束截面的光；用于将来自所述光束整形部件的光在所述免疫层析试验片上成像的透镜；配置在所述半导体发光元件和所述光束整形部件之间的、用于除去杂散光的筒状的第一遮光部；配置在所述光束整形部件和所述透镜之间的、用以除去杂散光的筒状的第二遮光部；和配置在所述透镜和所述免疫层析试验片之间的、用于除去杂散光的筒状的第三遮光部。
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