[发明专利]自立式钻石结构及方法无效
| 申请号： | 200480005731.X | 申请日： | 2004-02-06 |
| 公开（公告）号： | CN1906334A | 公开（公告）日： | 2007-01-31 |
| 发明（设计）人： | G·T·米尔里尼;小J·A·戴顿 | 申请（专利权）人： | 曼哈顿技术有限责任公司 |
| 主分类号： | C30B25/12 | 分类号： | C30B25/12 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 蒋旭荣 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明的一个方面涉及到一种用于制造自立内撑式三维物体的方法，该物体具有一个外表面，该外表面包括多个相交的刻面，其中至少一个分组的相交刻面具有一个厚度基本均匀的钻石层。该钻石层可通过在一个基片的表面上进行化学蒸汽沉(CVD)积处理而形成，其中该表面被制造成能够形成一个模具的结构形式，其中该模具限定了所述分组的相交刻面。在至少局部暴露的钻石层上形成一个衬层，从而当将基片除掉时，提高该层的刚度。 | ||
| 搜索关键词： | 立式 钻石 结构 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于制造自立内撑式三维物体的方法，该物体的外表面包括多个相交的刻面，至少一个分组的相交刻面具有一个厚度基本均匀的钻石层，所述方法包括下述步骤：(a)提供一个具有暴露表面的模具，其中该暴露表面限定了所述分组的相交刻面；(b)在暴露表面上生长出一个厚度基本均匀的钻石层；(c)将一个衬层沉积到至少部分钻石层上；和(d)将模具移开，以将恰好在模具附近长出的钻石层表面露出。
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