[发明专利]液浸曝光工艺用抗蚀剂材料以及使用该抗蚀剂材料的抗蚀剂图案形成方法无效
| 申请号： | 200480005913.7 | 申请日： | 2004-03-04 |
| 公开（公告）号： | CN1756994A | 公开（公告）日： | 2006-04-05 |
| 发明（设计）人： | 岩下淳;平山拓;立川俊和 | 申请（专利权）人： | 东京応化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/038 | 分类号： | G03F7/038;G03F7/004;C08F20/04;C08F20/26 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 郭煜;邹雪梅 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供含有树脂成分和该树脂成分的交联剂成分，且上述交联剂成分对液浸介质难溶的液浸曝光工艺用负性抗蚀剂材料，以及使用该材料的抗蚀剂图案形成方法。由此在液浸曝光工艺中，即使在平板印刷曝光的光达到抗蚀剂膜的路径的至少上述抗蚀剂膜上，介在折射率比空气高且折射率比上述抗蚀剂膜低的规定厚度的液体的状态下进行曝光，来提高抗蚀剂图案的分辨率的液浸曝光工艺中，可以同时防止液浸曝光中的抗蚀剂膜变质和使用液体的变质，可以形成用液浸曝光的高分辨率抗蚀剂图案。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 工艺 用抗蚀剂 材料 以及 使用 抗蚀剂 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种液浸曝光工艺用负型抗蚀剂材料，其特征在于，含有树脂成分和该树脂成分的交联剂成分，上述交联剂成分对液浸介质是难溶性的。
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