[发明专利]非易失性内存无效

专利信息
申请号: 200480005931.5 申请日: 2004-02-23
公开(公告)号: CN1757102A 公开(公告)日: 2006-04-05
发明(设计)人: D·卡萨罗托;K·胡姆勒 申请(专利权)人: 因芬尼昂技术股份公司
主分类号: H01L21/336 分类号: H01L21/336;H01L29/788;H01L21/8247;H01L27/115;H01L21/8239;H01L27/105
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 梁永
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 发明揭露了一种利用沟渠电容器而可轻易集成于形成DRAM单元的程序中的非易失性存储器单元。所述非易失性存储器单元包括一晶体管,其形成在产生于基板顶面下方的一沟渠中,且所述晶体管包括一U型浮动栅以作为所述沟渠的内衬;一介电层围绕着所述浮动栅,以将其与沟渠侧壁、底部、以及与位在所述浮动栅所形成的内沟渠上的一控制栅相隔离;一埋藏扩散区域邻接于所述浮动栅的底部;第一以及第二扩散区域位在所述沟渠的第一以及第二侧边上,其中所述第一扩散区域是位在所述基板的表面上,而所述第二扩散区域则是自所述表面延伸,并且耦接至所述埋藏扩散区域;此外,一字符线则耦接至所述控制栅。
搜索关键词: 非易失性 内存
【主权项】:
1.一种非易失性存储器单元,包括:一基板,其具有含一沟渠的一顶面;一晶体管,其位在所述沟渠之中,所述晶体管包括浮动栅以及控制栅,且所述浮动栅是衬于所述沟渠的内衬中而形成U型;一浮动栅介电层,其围绕所述浮动栅,以将所述浮动栅与所述基板分开以及与所述控制栅分开,其中,所述控制栅是位于由所述浮动栅所形成的一沟渠中,且该浮动栅介电层将所述控制栅与所述浮动栅分开;一埋藏扩散区域,其邻接所述沟渠的一底部;一第一扩散区域,其位在所述沟渠一第一侧边上的基板表面上;以及一第二扩散区域,其位在所述沟渠的一第二侧边上。
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