[发明专利]涂布膜的干燥方法和光学薄膜无效
| 申请号： | 200480006181.3 | 申请日： | 2004-03-04 |
| 公开（公告）号： | CN1758964A | 公开（公告）日： | 2006-04-12 |
| 发明（设计）人： | 小松原诚;井上龙一;太田美绘;土本一喜;近藤诚司;增田友昭 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | B05D3/00 | 分类号： | B05D3/00;F26B13/10;G02B5/30 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 朱丹 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种涂布膜的干燥方法，其目的在于可以稳定制造厚度的偏差少的涂布膜。所以，是在移动的长尺状支撑体(10)上涂布涂布液而形成的涂布膜(11)的干燥方法，在对长尺状支撑体(10)涂布涂布液之后，立刻将溶剂的蒸发速度保持在0.1g/m2·s以下使涂布膜(11)干燥。优选在刚刚涂布之后的涂布膜(11)的移动途中，配置板(20)并在其与涂布膜(11)之间设置一定的空隙，限制涂布液的蒸发速度。 | ||
| 搜索关键词： | 涂布膜 干燥 方法 光学薄膜 | ||
【主权项】：
1.一种涂布膜的干燥方法，其特征在于，是将涂布液涂布于移动的长尺状支撑体上而形成的涂布膜的干燥方法，在对所述长尺状支撑体涂布所述涂布液之后，立刻将溶剂的蒸发速度保持在0.1g/m2·s以下进行干燥。
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