[发明专利]化学放大型正型光刻胶组合物有效
| 申请号： | 200480006521.2 | 申请日： | 2004-03-11 |
| 公开（公告）号： | CN1759348A | 公开（公告）日： | 2006-04-12 |
| 发明（设计）人： | 新堀博 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039;H01L21/30 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 陈平 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种正型光刻胶组合物，其能够形成细微光刻胶图案，能够适宜地控制光刻胶图案的锥形结构的角，能够形成具有优异焦点深度幅的光刻胶图案。这种正型光刻胶组合物由化学放大型正型光刻胶组合物形成，其对于248nm波长的光通过厚度为0.3μm的光刻胶膜得到的透光率为20至75％。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 大型 光刻 组合 | ||
【主权项】：
1.一种正型光刻胶组合物，其中由化学放大型正型光刻胶组合物形成的厚度为0.3μm的光刻胶膜对于波长248nm的光的透光率为20至75％。
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