[发明专利]单光子发射体层成像系统无效
申请号: | 200480006811.7 | 申请日: | 2004-02-05 |
公开(公告)号: | CN1759328A | 公开(公告)日: | 2006-04-12 |
发明(设计)人: | 杰克·E·朱尼 | 申请(专利权)人: | 杰克·E·朱尼 |
主分类号: | G01T1/166 | 分类号: | G01T1/166 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 王萍 |
地址: | 美国密*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 产生多个表示光子放射性同位素的三维分布的X线断层图象的单光子发射体层成像系统,包括支承患者的基座从而患者的一部分位于视场中。限定穿过该视场的纵轴。检测器模块和该视场相邻并包括光子响应检测器,其可检测光子是否撞击它。定位在该视场和该检测器之间的光子阻隔件,其具有孔隙,使对准该孔隙的光子通过。从检测器穿过该孔限定一条响应线。准直组件包括多个大致平行的用光子衰减材料做成的准直叶片。叶片彼此间隔从而限定多个间隙,每个间隙具有一个高度。每个叶片具有对着该视场的前缘和对着检测器的后缘。每个叶片的前后深度比间隙的高度大十倍。该多个叶片设置在检测器和视场之间,从而只有通过间隙之一的光子才能从视场行进到检测器。 | ||
搜索关键词: | 光子 发射 成像 系统 | ||
【主权项】:
1.一种用于产生多个表示光子放射性同位素的三维分布的断层分析图象的单光子发射体层成像系统,所述系统包括:基座,其包括用来支承病人的患者支承从而患者的一部分躯干位于视场中,定义一个穿过该视场的纵轴;和该视场相邻的检测器组件,所述检测器组件包括一个能操作成检测光子是否撞击检测器的光子响应检测器,所述检测器组件能操作成扫描从患者位于该视场中的躯干部分发射的光子;设置在该视场和所述检测器之间的光子阻隔件,所述阻隔件具有一个穿过其限定的孔隙,用于使和所述孔隙对准的光子通过,从所述检测器穿过所述孔限定一条响应线;包括多个大致平行的、用光子衰减材料做成的准直叶片的准直组件,所述叶片彼此隔开从而限定多个间隙,所述间隙各具有一个高度,每个所述叶片具有对着该视场的前缘和对着所述检测器的后缘,每个所述叶片的前后深度比每个间隙的高度大十倍,所述多个叶片设置在所述检测器和该视场之间,从而只有通过所述间隙之一的光子才能从该视场行进到所述检测器;以及位移致动器,其能操作成相对于所述检测器和所述光子阻隔件中的一个移动所述检测器和所述阻隔件中的另一个,从而所述孔相对于所述检测器移动,并且响应线扫过至少该视场的一部分。
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