[发明专利]光学记录媒质无效
| 申请号： | 200480006895.4 | 申请日： | 2004-03-10 |
| 公开（公告）号： | CN1761573A | 公开（公告）日： | 2006-04-19 |
| 发明（设计）人： | 保田宏一;小山田光明;中野淳;三津井教夫;玉田作哉 | 申请（专利权）人： | 索尼株式会社 |
| 主分类号： | B41M5/26 | 分类号： | B41M5/26;G11B7/24 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陶凤波;侯宇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供了一种使用Sn作为记录材料以改善抖动的光学记录媒质。媒质包括在其表面上形成有分割轨道区的凹凸形状的盘基(11)。在该凹凸形状的形成面上，至少形成有用于保护一光学记录层(12)的第一保护层(31)、形成于第一保护层上且使用至少由锡(Sn)、氮(N)和氧(O)构成的化合物的光学记录层(12)、形成于光学记录层上且用于保护该光学记录层的第二保护层(32)、以及形成于第二保护层上的透光层(13)。第一和第二保护层(31，32)的作用是使得高温高湿下的光学记录层(12)稳定化。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 记录 媒质 | ||
【主权项】：
1.一种光学记录媒质，包括基板，在其表面上形成有分割轨道区的凹凸形状，在所述凹凸形状的表面上包括：第一保护层，用于保护至少一光学记录层，形成于所述第一保护层上的所述光学记录层，使用至少由锡、氮和氧构成的化合物，第二保护层，用于保护所述光学记录层，形成于所述光学记录层上，及透光层，形成于所述第二保护层上。
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