[发明专利]借助于等离子体产生远紫外线和/或软X射线辐射的装置和方法有效
| 申请号： | 200480007227.3 | 申请日： | 2004-03-09 |
| 公开（公告）号： | CN1762183A | 公开（公告）日： | 2006-04-19 |
| 发明（设计）人： | P·辛克 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | H05G2/00 | 分类号： | H05G2/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 程天正;陈景峻 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 描述了一种用于借助等离子体产生远紫外线和/或软X射线辐射的方法，该等离子体可以通过照射材料而产生。为了获得光学照明系统污染的降低以及辐射源(50)功率的瞬时最优化，建议借助阻挡装置(70)至少控制材料的数量。 | ||
| 搜索关键词： | 借助于 等离子体 产生 紫外线 射线 辐射 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种装置，用于借助于可以通过照射材料产生的等离子体(80)来产生远紫外线和/或软X射线辐射，其特征在于，该装置用于至少控制引入到辐射源(50)的一定数量的材料。
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