[发明专利]后物镜扫描装置无效

专利信息
申请号: 200480007511.0 申请日: 2004-03-18
公开(公告)号: CN1761906A 公开(公告)日: 2006-04-19
发明(设计)人: W·D·范阿姆斯特 申请(专利权)人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
主分类号: G02B26/12 分类号: G02B26/12;G02B27/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 王岳;王忠忠
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 一种使用可旋转的多面镜(16)并具有校正系统(BMS;22)的后物镜扫描装置(1),用于用已很好校正的扫描光点(30)实现远心扫描,该装置设有反射镜小平面跟踪装置(42),来获得校正系统的高辐射效率和最佳使用。该小平面跟踪装置可以是包括附加光束偏振器(42)的主动式装置或者包括小平面跟踪反射镜(54)的被动式装置。
搜索关键词: 物镜 扫描 装置
【主权项】:
1.一种用于沿一条线扫描表面的光学扫描装置,该装置包括用于提供至少一个初级辐射光束的辐射源单元,用于将光束聚焦到将被扫描的表面上的一个光点的光学系统,和可旋转的多面镜,该可旋转的多面镜包括多个反射镜小平面,用于使光束偏转可变的偏转角,因此获得扫描光束,以将扫描光束引导到将被扫描的表面的位置上,所述光学系统包括主成像系统和校正系统,主成像系统布置在辐射源单元和多面镜之间的扫描光束的辐射路径上,校正系统布置在多面镜和将被扫描的表面之间的扫描光束的辐射路径中,其特征在于该装置包括小平面跟踪装置,用于与多面镜的旋转同步地偏转初级聚焦光束,以使初级光束的主光线被连续引导到由初级光束瞬间照射的小平面的基本中心位置。
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