[发明专利]膜或薄层离子化沉积的设备和方法无效
| 申请号： | 200480007819.5 | 申请日： | 2004-01-21 |
| 公开（公告）号： | CN1764736A | 公开（公告）日： | 2006-04-26 |
| 发明（设计）人： | J·米泽;D·尼梅拉;S·吴 | 申请（专利权）人： | 霍尼韦尔国际公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;H01F7/06;H01F27/06 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 韦欣华;段晓玲 |
| 地址： | 美国新*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请所描述的线圈组件包括：a)至少一个线圈；和b)至少一个与至少一个线圈耦合的轮毂，其中，所述至少一个轮毂包括至少两个支撑部件。本申请所描述的形成和/或生产线圈组件的方法包括：a)提供线圈；b)提供至少一个具有至少两个支撑部件的轮毂；c)将至少一个轮毂与线圈耦合。 | ||
| 搜索关键词： | 薄层 离子化 沉积 设备 方法 | ||
【主权项】：
1.线圈组件，包括：至少一个线圈，至少一个与至少一个线圈耦合的轮毂，其中，至少一个轮毂包括至少两个支撑部件。
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